Kompetenzzentrum Nanosystemtechnik

Beschichtung- und Trockenätzverfahren:

  • Plasmaverascher
  • ICP-Ätzanlage (inductively coupled plasma)
  • PECVD (Plasma enhanced chemical vapour deposition)
  • Magnetronclusteranlage CS 730S
  • Sputteranlage für nichtplanare Objekte
  • Sputteranlage für Metall-Polymer-Komposite
  • UHV-Aufdampfanlage amocon GmbH
  • Elektronenstrahlverdampfer PLS 500
  • Rapid Thermal Annealing (RTA)
  • Ionenstrahlätzanlage
  • PLD (Pulsed Laser Deposition)
  • Magnetfeldglühen
  • Drahtbonder
  • Bondaligner BA6
  • Eutektischer Bonder SB6
  • ALD (Atomic Layer Deposition)
  • PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition)
  • Multisource-Sputteranlage (im Aufbau)